高溫三溫區管式氣氛爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二硫化鉬等二維材料的制備。

單溫區管式爐可根據用戶需要設計生產（有雙溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。

管式高溫爐可根據用戶需要設計生產（有雙溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。

CVD管式爐（Chemical Vapor Deposition Tubular Furnace）是一種將氣相反應產生的化學物質沉積在加熱基底上形成薄膜的裝置。通常由爐體、加熱系統、保護氣體系統、反應氣體系統、真空系統組成，它是一種廣泛應用于材料制備領域的基礎設施。

真空高溫管式爐，多通道氣路系統和真空系統組成，可根據用戶需要設計生產（有雙溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。

1400℃雙溫區管式爐主要用于石墨、陶瓷、鋰電池、稀有金屬、稀土、生物材料等在氣氛保護下進行燒結、鍍膜、熱處理、灰分測定等，也適用于石墨烯、碳納米管、二硫化鉬等二維材料的制備。