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PECVD系統是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備,能夠對各種材料進行薄膜沉積,包括金屬、半導體、絕緣體等。PECVD技術在微電子、光電、平板顯示、儲能等領域具有重要的應用價值。
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